분석 유체의 농도 측정을 위한, 리세스에 의해 개방된 멤브레인을 가진 센서
본 발명은 열전도율 원리에 기초하여 분석 유체의 농도를 측정하기 위한 센서(1)에 관한 것으로, 상기 센서는 측정 멤브레인(8) 상에 배치된, 분석 유체를 가열하기 위한 적어도 하나의 분석 가열 소자(14)와, 기준 멤브레인(6) 상에 배치된, 적어도 하나의 기준 가스를 가열하기 위한 기준 가열 소자(12)를 구비하며, 측정 멤브레인(8)과 기준 멤브레인(6)은 센서 기판(16)과 캡 기판(18) 사이에 서로 인접하여 배열되며, 측정 멤브레인(8)은 측정 체적부(4) 내에 배치되고, 기준 멤브레인(6)은 기준 체적부(2) 내에 배치...
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Format: | Patent |
Sprache: | kor |
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Zusammenfassung: | 본 발명은 열전도율 원리에 기초하여 분석 유체의 농도를 측정하기 위한 센서(1)에 관한 것으로, 상기 센서는 측정 멤브레인(8) 상에 배치된, 분석 유체를 가열하기 위한 적어도 하나의 분석 가열 소자(14)와, 기준 멤브레인(6) 상에 배치된, 적어도 하나의 기준 가스를 가열하기 위한 기준 가열 소자(12)를 구비하며, 측정 멤브레인(8)과 기준 멤브레인(6)은 센서 기판(16)과 캡 기판(18) 사이에 서로 인접하여 배열되며, 측정 멤브레인(8)은 측정 체적부(4) 내에 배치되고, 기준 멤브레인(6)은 기준 체적부(2) 내에 배치되며, 측정 멤브레인(8)과 기준 멤브레인(6)은 각각 적어도 하나의 코팅(28)을 가지며, 측정 멤브레인(8)은 적어도 하나의 리세스(30)에 의해 개방된다. 또한, 본 발명은 센서를 제조하는 방법에 관한 것이다.
A sensor for measuring a concentration of an analysis fluid based on a thermal conductivity principle. The sensor includes at least one analysis heating element, situated on a measuring diaphragm, for heating the analysis fluid, and a reference heating element, situated on a reference diaphragm, for heating at least one reference gas. The measuring diaphragm and the reference diaphragm are adjacently situated between a sensor substrate and a cap substrate. The measuring diaphragm is situated in a measuring volume and the reference diaphragm is situated in a reference volume. The measuring diaphragm and the reference diaphragm each include at least one coating. The measuring diaphragm is opened by at least one clearance. A method for manufacturing a sensor is also described. |
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