SUPPROTING UNIT AND SUBSTRATE TREATING APPARUTUS INCLUDING THE SAME

본 발명은 기판을 지지하고 회전되는 척과; 상기 척에 지지된 기판과 상기 척의 사이에 제공되며, 기판을 사열하는 광을 방출하는 램프 유닛을 포함하되, 상기 램프 유닛은 표면에 반사층이 제공되는 제1램프를 포함하고, 상기 반사층은 상기 제1램프의 표면 중 상기 제1램프에서 방출되는 광이 기판을 직접 향하는 영역에는 제공되지 않는 지지 유닛에 관한 것이다. The inventive concept provides a substrate support unit comprising a chuck supporting and rotating a...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	YUN KANG SEOP, SONG SOO HAN, CHOI JUNG BONG, KIM CHUL GOO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CLEANING CLEANING IN GENERAL ELECTRIC HEATING ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PERFORMING OPERATIONS PREVENTION OF FOULING IN GENERAL SEMICONDUCTOR DEVICES TRANSPORTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 기판을 지지하고 회전되는 척과; 상기 척에 지지된 기판과 상기 척의 사이에 제공되며, 기판을 사열하는 광을 방출하는 램프 유닛을 포함하되, 상기 램프 유닛은 표면에 반사층이 제공되는 제1램프를 포함하고, 상기 반사층은 상기 제1램프의 표면 중 상기 제1램프에서 방출되는 광이 기판을 직접 향하는 영역에는 제공되지 않는 지지 유닛에 관한 것이다. The inventive concept provides a substrate support unit comprising a chuck supporting and rotating a substrate; and a lamp unit provided below the substrate to heat the substrate, wherein the lamp unit comprises a first lamp having a reflective layer on the surface thereof, to block and/or reflect a light which is emitted from the first lamp but not directed to the substrate to direct the light to the substrate.