리소그래피 시스템을 위한 교정 방법
리소그래피 시스템 내의 기판 스테이지의 위치를 참조하기 위한 교정된 레퍼런스 노광 및 측정 그리드를 결정하기 위한 방법이 개시된다. 이러한 방법은 하나 이상의 교정 기판에 관련된 교정 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 노광측에 대한 노광 그리드를 결정하고, 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 측정측에 대한 측정 그리드를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 노광 그리드 및 상기 측정 그리드는, 기판 독립적 노광 그리드 및 기판 독립적 측정 그리드를 획득하도록 상기 노광 그리드로부터...
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| creator | BROUWER CORNELIS MELCHIOR LI CHUNG HSUN |
| description | 리소그래피 시스템 내의 기판 스테이지의 위치를 참조하기 위한 교정된 레퍼런스 노광 및 측정 그리드를 결정하기 위한 방법이 개시된다. 이러한 방법은 하나 이상의 교정 기판에 관련된 교정 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 노광측에 대한 노광 그리드를 결정하고, 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 측정측에 대한 측정 그리드를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 노광 그리드 및 상기 측정 그리드는, 기판 독립적 노광 그리드 및 기판 독립적 측정 그리드를 획득하도록 상기 노광 그리드로부터 그리고 상기 측정 그리드로부터 교정 기판 의존적 성분을 제거하기 위하여 분해된다.
Disclosed is a method of determining calibrated reference exposure and measure grids for referencing position of a substrate stage in a lithographic system. The method comprises obtaining calibration data relating to one or more calibration substrates; and determining an exposure grid for an exposure side of the lithographic system from said calibration data and a measure grid for a measure side of the lithographic system from said calibration data. The exposure grid and said measure grid are decomposed so as to remove a calibration substrate dependent component from said exposure grid and from said measure grid to obtain a substrate independent exposure grid and substrate independent measure grid. |
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Disclosed is a method of determining calibrated reference exposure and measure grids for referencing position of a substrate stage in a lithographic system. The method comprises obtaining calibration data relating to one or more calibration substrates; and determining an exposure grid for an exposure side of the lithographic system from said calibration data and a measure grid for a measure side of the lithographic system from said calibration data. The exposure grid and said measure grid are decomposed so as to remove a calibration substrate dependent component from said exposure grid and from said measure grid to obtain a substrate independent exposure grid and substrate independent measure grid.</description><language>kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; MATERIALS THEREFOR ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS</subject><creationdate>2022</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220613&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20220079662A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20220613&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20220079662A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>BROUWER CORNELIS MELCHIOR</creatorcontrib><creatorcontrib>LI CHUNG HSUN</creatorcontrib><title>리소그래피 시스템을 위한 교정 방법</title><description>리소그래피 시스템 내의 기판 스테이지의 위치를 참조하기 위한 교정된 레퍼런스 노광 및 측정 그리드를 결정하기 위한 방법이 개시된다. 이러한 방법은 하나 이상의 교정 기판에 관련된 교정 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 노광측에 대한 노광 그리드를 결정하고, 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 측정측에 대한 측정 그리드를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 노광 그리드 및 상기 측정 그리드는, 기판 독립적 노광 그리드 및 기판 독립적 측정 그리드를 획득하도록 상기 노광 그리드로부터 그리고 상기 측정 그리드로부터 교정 기판 의존적 성분을 제거하기 위하여 분해된다.
Disclosed is a method of determining calibrated reference exposure and measure grids for referencing position of a substrate stage in a lithographic system. The method comprises obtaining calibration data relating to one or more calibration substrates; and determining an exposure grid for an exposure side of the lithographic system from said calibration data and a measure grid for a measure side of the lithographic system from said calibration data. The exposure grid and said measure grid are decomposed so as to remove a calibration substrate dependent component from said exposure grid and from said measure grid to obtain a substrate independent exposure grid and substrate independent measure grid.</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2022</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDB8vWzNm7aeV9t3vJ434-2UPQpvuue86VrytnXOm7ktCm_mtLydOkfh1dYJbxZMVXi9YeXrTVN5GFjTEnOKU3mhNDeDsptriLOHbmpBfnxqcUFicmpeakm8d5CRgZGRgYG5pZmZkaMxcaoAxzg6pg</recordid><startdate>20220613</startdate><enddate>20220613</enddate><creator>BROUWER CORNELIS MELCHIOR</creator><creator>LI CHUNG HSUN</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20220613</creationdate><title>리소그래피 시스템을 위한 교정 방법</title><author>BROUWER CORNELIS MELCHIOR ; LI CHUNG HSUN</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20220079662A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2022</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>BROUWER CORNELIS MELCHIOR</creatorcontrib><creatorcontrib>LI CHUNG HSUN</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>BROUWER CORNELIS MELCHIOR</au><au>LI CHUNG HSUN</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>리소그래피 시스템을 위한 교정 방법</title><date>2022-06-13</date><risdate>2022</risdate><abstract>리소그래피 시스템 내의 기판 스테이지의 위치를 참조하기 위한 교정된 레퍼런스 노광 및 측정 그리드를 결정하기 위한 방법이 개시된다. 이러한 방법은 하나 이상의 교정 기판에 관련된 교정 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 노광측에 대한 노광 그리드를 결정하고, 상기 교정 데이터로부터 상기 리소그래피 시스템의 측정측에 대한 측정 그리드를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 노광 그리드 및 상기 측정 그리드는, 기판 독립적 노광 그리드 및 기판 독립적 측정 그리드를 획득하도록 상기 노광 그리드로부터 그리고 상기 측정 그리드로부터 교정 기판 의존적 성분을 제거하기 위하여 분해된다.
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