극자외선 패턴 마스크 상의 인쇄가능한 결함을 감소시키기 위한 시스템 및 방법

패턴 마스크 상의 인쇄가능한 결함들을 감소시키기 위한 시스템이 개시된다. 본 시스템은 특성화 서브시스템에 통신가능하게 결합되도록 구성된 제어기를 포함하되, 제어기는 프로그램 명령어들을 실행하도록 구성된 하나 이상의 프로세서를 포함하며, 프로그램 명령어들은 하나 이상의 프로세서로 하여금: 특성화 서브시스템에 마스크 블랭크의 검사를 수행할 것을 지시하게 하고; 제1 특성 및 제2 특성에 기초하여 비용 함수를 생성하게 하고 - 제1 특성은 마스크 패턴들에 의해 노출된 결함 구역들의 영역들을 포함하고, 제2 특성은 마스크 패턴의 패턴 복잡도를 포함함 -; 비선형 최적화 절차를 통해 최소 비용 함수를 나타내는 하나 이상의 값을 결정하게 하며; 최소 비용 함수를 나타내는 결정된 하나 이상의 값에 기초하여 설계 패턴에 대한 마스크 블랭크의 회전 및 병진이동을 조정하기 위한 하나 이상의 제어 신호를 생성하게 하는 것이다. A system for reducing printable defects on a pattern mask is disclosed. The system includes a controller configured to be communicatively coupled to a characterization sub-system, the controller including one or more processors configured to execute program instructions causing the one or more processors to: direct the characterization sub-system to perform inspection of a mask blank; generate a cost function based on a first characteristic and a second characteristic, the first characteristic comprising areas of defect regions exposed by mask patterns, the second characteristic comprising pattern complexity of a design pattern; determine one or more values indicative of a minimum of the cost function via a non-linear optimization procedure; and generate one or more control signals to adjust rotation and translation of the mask blank relative to the design pattern based on the determined one or more values indicative of the minimum of the cost function.