SUPPORT UNIT PROVIDED IN APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 제공되는 지지 유닛을 제공한다. 지지 유닛은, 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 플레이트; 상기 온도 조절 플레이트의 하면에 제공되는 온도 조절 패턴; 및 상기 온도 조절 패턴에 전력을 공급하는 전력 공급 유닛을 포함하고, 상기 전력 공급 유닛은, 상기 온도 조절 패턴과 접촉되어, 상기 온도 조절 패턴을 발열시키는 전력을 공급하는 전력 공급 단자; 상기 전력 공급 단자를 위 방향으로 밀어 올리는 상부 자성체; 및 상기 상부 자성체의 하부에 배치되며, 상기 상부 자성체를 위 방향으로 밀어 올리는 하부...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LEE JONG IN, NOH HYOUNG RAE, KANG HYUN WOO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC HEATING ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은 기판을 처리하는 장치에 제공되는 지지 유닛을 제공한다. 지지 유닛은, 기판의 온도를 조절하는 온도 조절 플레이트; 상기 온도 조절 플레이트의 하면에 제공되는 온도 조절 패턴; 및 상기 온도 조절 패턴에 전력을 공급하는 전력 공급 유닛을 포함하고, 상기 전력 공급 유닛은, 상기 온도 조절 패턴과 접촉되어, 상기 온도 조절 패턴을 발열시키는 전력을 공급하는 전력 공급 단자; 상기 전력 공급 단자를 위 방향으로 밀어 올리는 상부 자성체; 및 상기 상부 자성체의 하부에 배치되며, 상기 상부 자성체를 위 방향으로 밀어 올리는 하부 자성체를 포함할 수 있다.