APPARATUS OF DEFORGGING
A defog device comprises: a base film; a defog sensor provided on the base film; a heating unit provided on the base film; and a processor. The defog sensor comprises: a first electrode; a second electrode spaced from the first electrode; and a humidity sensing film provided between the first electr...
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|---|---|
| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; kor |
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| Zusammenfassung: | A defog device comprises: a base film; a defog sensor provided on the base film; a heating unit provided on the base film; and a processor. The defog sensor comprises: a first electrode; a second electrode spaced from the first electrode; and a humidity sensing film provided between the first electrode and the second electrode. The processor obtains an impedance size rate which is a rate of a size of first impedance to a size of second impedance between the first electrode and the second electrode and controls the heating unit based on the impedance size rate.
김서림 제거 장치는 베이스 필름, 베이스 필름 상에 제공되는 김서림 센서, 베이스 필름 상에 제공되는 발열부, 및 프로세서를 포함하되, 김서림 센서는, 제1 전극, 제1 전극으로부터 이격되는 제2 전극, 및 제1 전극 및 제2 전극 사이에 제공되는 감습막을 포함하고, 프로세서는, 제1 전극 및 제2 전극 사이의 제1 임피던스의 크기 및 제2 임피던스의 크기의 비율인 임피던스 크기 비를 획득하며, 임피던스 크기 비에 기초하여 발열부를 제어한다. |
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