듀얼 플레넘 프랙탈 샤워헤드

프로세싱 동작들 동안 반도체 웨이퍼에 걸쳐 상이한 반도체 프로세싱 가스들을 분배하기 위한 DPF (dual-plenum fractal) 샤워헤드가 제공된다. DPF 샤워헤드는 복수의 층들을 가질 수도 있고, 층들 각각은 가스 분배 피처들의 패턴을 특징으로 하고, 층 각각 상의 가스 분배 피처들은 일반적으로 해당 층으로부터 바로 업스트림인 층 상의 가스 분배 피처들과 형상이 유사하지만 크기가 보다 작다. 가스 플로우 통로들에 대한 이러한 "프랙탈"-유사 구조체는 프로세싱 동작들 동안 반도체 웨이퍼의 표면에 걸쳐 매우 균일한 프로세싱 가스 전달을 제공하여, 웨이퍼 균일도를 향상시킨다. A dual-plenum fractal (DPF) showerhead for distributing different semiconductor processing gases across a semiconductor wafer during processing operations is provided. The DPF showerhead may have a plurality of layers, each featuring a pattern of gas distribution features, with the gas distribution features on each layer generally being similar in shape to the gas distribution features on the layer immediately upstream therefrom but smaller in size. Such a "fractal"-like structure to the gas flow passages provides very uniform processing gas delivery across the surface of a semiconductor wafer during processing operations, thereby enhancing wafer uniformity.