반도체 리소그래피용 투영 노광 장치

본 발명은 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치(1)에 관한 것이며, 센서 프레임(30), 지지 프레임(40), 모듈(50)을 포함하는 투영 광학 유닛(9)을 포함하고, 모듈(50)은 광학 요소(52) 및 광학 요소(52)의 위치설정 및 배향을 위한 액추에이터(53)를 가지며, 모듈(50)은 지지 프레임(40) 상에 배열되고 센서 프레임(30)은 광학 요소(52)의 위치설정을 위한 참조점으로서 구현되고, 모듈(50)은 기반구조(60)을 포함한다. 본 발명에 따르면, 기반구조(60)는 모듈(50)을 투영 광학 유닛(9)으로부터 분리하기 위한 인터페이스(62, 70)를 포함하도록 구현된다. 더 나아가, 본 발명은 반도체 리소그래피용 투영 노광 장치(1)의 투영 광학 유닛(9)의 모듈(50) 교체 방법을 포함하고, 모듈(50)은 광학 요소(52)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 광학 요소(52)를 위치설정 및/또는 배향을 위한 참조점(55)은 모듈(50)의 교체 동안 투영 노광 장치(1)에 남아있다. A projection exposure apparatus for semiconductor lithography having a projection optical unit. The projection optical unit includes a sensor frame, a carrying frame, and a module. The module includes an optical element and actuators for positioning and orienting the optical element. The module is on the carrying frame, and the sensor frame is a reference for the positioning of the optical element. The module includes an infrastructure which includes interfaces for separating a module from the projection optical unit. A method exchanges the module of a projection optical unit of a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, wherein the module includes an optical element, while the reference remains in the projection exposure apparatus.