Apparatus for processing substrate
A substrate processing apparatus is provided that prevents a processing solution splashed from a substrate from hitting a bowl and being bounced back to the surface of the substrate. The substrate processing apparatus includes: a substrate support part for supporting a substrate; a bowl disposed to...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | A substrate processing apparatus is provided that prevents a processing solution splashed from a substrate from hitting a bowl and being bounced back to the surface of the substrate. The substrate processing apparatus includes: a substrate support part for supporting a substrate; a bowl disposed to surround the edge of the substrate to recover chemical liquid scattered from the substrate; and a drive part for rotating the substrate support part and the bowl. A coating layer is formed on the inner surface of the bowl to facilitate the reflection of chemical liquid scattered from the substrate.
기판에서 튀겨진 처리용액이 보울을 맞고 되튀겨 나와 기판의 표면으로 되돌아오는 것을 억제하는 기판 처리 장치가 제공된다. 상기 기판 처리 장치는 기판을 지지하는 기판 지지부, 기판의 가장자리를 감싸도록 배치되어 기판에서 비산된 약액을 회수하는 보울, 기판 지지부 및 보울을 회전시키는 구동부를 포함하되, 보울의 내측면은 기판에서 비산된 약액의 반사를 원활하게 하는 코팅층이 형성되어 있다. |
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