HEAT TREATMENT APPARATUS AND DUMMY SUBSTRATE TREATMENT METHOD

Provided is the technique capable of improving process reproducibility. According to one aspect of the present disclosure, a heat treatment device for performing heat treatment on a plurality of substrates including a product substrate and a dummy substrate includes: a processing container accommodating the plurality of substrates; a storage container provided outside the processing container and storing the dummy substrate; and an oxidation mechanism for oxidizing the dummy substrate stored in the storage container. 프로세스 재현성을 개선할 수 있는 기술을 제공한다. 본 개시의 일 양태에 따른 열처리 장치는, 제품 기판과 더미 기판을 포함하는 복수의 기판에 열처리를 행하는 열처리 장치이며, 상기 복수의 기판을 수용하는 처리 용기와, 상기 처리 용기의 외부에 마련되고, 상기 더미 기판을 보관하는 보관 용기와, 상기 보관 용기에 보관된 상기 더미 기판을 산화시키는 산화 기구를 갖는다.