Method of increasing nano patterned cylindrical mold using pattern transfer process

The present invention relates to a method for increasing an area of a nanopatterned cylindrical mold by using a pattern transfer process, capable of manufacturing a roll mold having a nanopattern used in a roll-to-roll imprint lithography process while increasing an area of a pattern region of a flat mold. The method includes: forming a pattern by using a pattern transfer process on a primary base roll by using a flat nano-stamp having a small size; fabricating a film in which an area of a pattern is increased so as to be widened along an x-axis by performing a roll-to-roll process by using the primary base roll that is patterned; performing the pattern transfer process on a secondary base roll by using a patterned film widened along the x-axis; fabricating the patterned film in which a pattern region is widened along a y-axis by using the roll-to-roll process by using the secondary base roll that is patterned, which is able to be used as a mold having a pattern width corresponding to a length widened along the x-axis; and performing the pattern transfer process by using the patterned film in which the pattern region is widened along the x-axis and the y-axis in the size of the nano-stamp. 본 발명은 평판형 금형의 패턴 영역을 대면적화 하여 롤투롤 임프린트 리소그래피 공정에 사용하는 나노 패턴을 갖는 롤 금형을 제조할 수 있도록 한 패턴전사 공정을 이용한 나노패턴 원통 금형 대면적화 방법에 관한 것으로, 작은 크기의 평판 Nano stamp를 이용하여 1차 base roll에 패턴 전사 공정을 이용하여 패턴을 형성하는 단계;패턴된 1차 base roll을 이용하여 롤투롤 공정을 수행하여 x축으로 넓어진 형태로 패턴의 대면적화가 이루어진 film을 생산하는 단계;x축으로 넓어진 패턴된 film을 이용하여 2차 base roll에 패턴 전사 공정을 수행하는 단계;패터닝이 완료된 2차 base roll은 x축으로 넓어진 길이 만큼 패턴 넓이를 가지는 금형으로 사용이 가능한 것을 이용하여 롤투롤 공정을 이용하여 y축으로 패턴 영역이 넓어진 패턴된 film을 생산하는 단계;nano stamp의 크기에서 x축과 y축으로 패턴 영역이 넓혀진 패턴된 film을 이용하여 패턴 전사 공정을 수행하는 단계;를 포함하는 것이다.