프로세싱 시스템을 위한 동적 멀티 존 유동 제어

일 예에서, 프로세스 챔버는 덮개 조립체, 제1 가스 공급부, 제2 가스 공급부, 챔버 바디 및 기판 지지부를 포함한다. 덮개 조립체는 가스 박스, 가스 박스를 통과하는 가스 도관, 블로커 플레이트 및 샤워헤드를 포함한다. 가스 박스는 가스 분배 플레넘, 및 가스 분배 플레넘과 정렬된 복수의 홀들을 포함하는 분배 플레이트를 포함한다. 블로커 플레이트가 가스 박스에 커플링되어서, 제1 플레넘을 형성한다. 샤워헤드가 블로커 플레이트에 커플링되어서, 제2 플레넘을 형성한다. 제1 가스 공급부는 가스 분배 플레넘에 커플링되고, 제2 가스 공급 시스템은 가스 도관에 커플링된다. 챔버 바디는 샤워헤드에 커플링되며, 기판 지지 조립체는 챔버 바디의 내부 볼륨 내에 배치되고, 프로세싱 동안 기판을 지지하도록 구성된다. In one example, a process chamber comprises a lid assembly, a first gas supply, second gas supply, a chamber body, and a substrate support. The lid assembly comprises a gas box, a gas conduit passing through the gas box, a blocker plate, and a showerhead. The gas box comprises a gas distribution plenum, and a distribution plate comprising a plurality of holes aligned with the gas distribution plenum. The blocker plate is coupled to the gas box forming a first plenum. The showerhead is coupled to the blocker plate forming a second plenum. The first gas supply is coupled to the gas distribution plenum, and the second gas supply system is coupled to the gas conduit. The chamber body is coupled to the showerhead, and the substrate support assembly is disposed within an interior volume of the chamber body, and is configured to support a substrate during processing.