기판 처리 장치, 기판 검사 방법 및 기억 매체

기판 처리 장치는, 표면에 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부(31)와, 유지부(31)에 유지된 상기 기판의 표면을 촬상하여 화상 데이터를 취득하는 촬상부(33)와, 유지부(31)에 유지된 상기 기판 표면으로부터의 빛을 분광하여 분광 데이터를 취득하는 분광 측정부(40)와, 유지부(31), 촬상부(33) 및 분광 측정부(40)를 제어하는 제어 장치(100)를 갖는다. A substrate processing apparatus includes: a holding unit configured to hold a substrate havi...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	NODA YASUAKI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CALCULATING COMPUTING COUNTING ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS PHYSICS SEMICONDUCTOR DEVICES TESTING
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Beschreibung
Zusammenfassung:	기판 처리 장치는, 표면에 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부(31)와, 유지부(31)에 유지된 상기 기판의 표면을 촬상하여 화상 데이터를 취득하는 촬상부(33)와, 유지부(31)에 유지된 상기 기판 표면으로부터의 빛을 분광하여 분광 데이터를 취득하는 분광 측정부(40)와, 유지부(31), 촬상부(33) 및 분광 측정부(40)를 제어하는 제어 장치(100)를 갖는다. A substrate processing apparatus includes: a holding unit configured to hold a substrate having a film formed on a surface; an imaging unit configured to acquire image data by imaging the surface of the substrate held by the holding unit; a spectroscopic measuring unit configured to acquire spectroscopic data by dispersing light from the surface of the substrate held by the holding unit; and a control unit configured to control the holding unit, the imaging unit, and the spectroscopic measuring unit.