HEAD CLEANING UNIT AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE INCLUDING THE SAME

The present invention provides an inkjet head cleaning unit capable of thoroughly removing fine liquid crystal remaining in a head, and a substrate processing device comprising the same. The inkjet head cleaning unit comprises: a body; a spray unit formed on the body and spraying a cleaning fluid to a nozzle surface of the head; and a suction unit formed in the body and sprayed from the spray unit to suck in the cleaning fluid used for cleaning the nozzle surface of the head and foreign substances separated from the nozzle surface of the head. The spray unit may include a vertical passage through which the cleaning fluid flows in a vertical direction, and a discharge end at an end of the vertical passage for guiding the cleaning fluid to be sprayed in a direction toward the suction unit. 본 발명은 잉크젯 헤드 세정 유닛을 제공한다. 잉크젯 헤드 세정 유닛은 바디; 상기 바디에 형성되고, 헤드의 노즐면으로 세정유체를 분사하는 분사부; 상기 바디에 형성되고, 상기 분사부에서 분사되어 상기 헤드의 노즐면 세정에 사용된 세정유체 및 상기 헤드의 노즐면으로부터 분리된 이물질들이 흡입되는 흡입부를 포함하되; 상기 분사부는 세정유체가 수직한 방향으로 흐르는 수직 통로 및 상기 수직 통로의 끝단에 상기 흡입부를 향하는 방향으로 세정유체가 분사되도록 안내하는 토출단부를 포함할 수 있다.