FILM FOR FORMING PROTECTIVE COAT AND COMPOSITE SHEET FOR FORMING PROTECTIVE COAT

반도체 칩이 대전되는 것을 방지할 수 있는 보호막 형성용 필름 및 보호막 형성용 복합 시트를 제공한다. 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름으로서, 상기 보호막 형성용 필름은 에너지선을 조사하여 경화시켰을 때, 표면 저항률이 1012Ω·㎝ 이하로 한다. 상기 보호막 형성용 필름은 대전 방지제를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 대전 방지제가 음이온계 계면활성제계 대전 방지제, 양이온계 계면활성제계 대전 방지제, 비이온계 계면활성제계 대전 방지제, 양쪽성이온계 계면활성제계 대전 방지제, 및 비이온계 계면활성제계 대전 방지제로 이루어지는...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: YAMAMOTO DAISUKE, INAO YOUICHI
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:반도체 칩이 대전되는 것을 방지할 수 있는 보호막 형성용 필름 및 보호막 형성용 복합 시트를 제공한다. 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름으로서, 상기 보호막 형성용 필름은 에너지선을 조사하여 경화시켰을 때, 표면 저항률이 1012Ω·㎝ 이하로 한다. 상기 보호막 형성용 필름은 대전 방지제를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 대전 방지제가 음이온계 계면활성제계 대전 방지제, 양이온계 계면활성제계 대전 방지제, 비이온계 계면활성제계 대전 방지제, 양쪽성이온계 계면활성제계 대전 방지제, 및 비이온계 계면활성제계 대전 방지제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. Provided are a film for forming a protective coat and a composite sheet for forming a protective coat that are able to prevent a semiconductor chip from taking on a charge. An energy ray-curable film for forming a protective coat, wherein when the film for forming a protective coat has been irradiated with energy rays and cured, the surface resistivity thereof is 1012Ω∙cm or less. The film for forming a protective coat preferably includes an antistatic agent, and the antistatic agent is preferably at least one type of agent selected from the group consisting of anionic surfactant antistatic agents, cationic surfactant antistatic agents, nonionic surfactant antistatic agents, and amphoteric surfactant antistatic agents.