LITHOGRAPHIC PROCESS AND APPARATUS AND INSPECTION PROCESS AND APPARATUS

리소그래피 장치 및 리소그래피 프로세스를 제어하는 연관된 방법이 개시된다. 리소그래피 장치는 리소그래피 장치 내에서 기판의 위치 설정와 연관된 제어 그리드를 규정하도록 구성되는 제어기를 포함한다. 제어 그리드는, 패터닝 디바이스에 연관된 디바이스 레이아웃을 기초로 하여 리소그래피 프로세스에서 기판에 적용될 및/또는 적용된 디바이스 패턴을 규정한다. Disclosed is a lithographic apparatus and associated method of controlling a lithographic process. The l...

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Hauptverfasser:	KATTOUW HANS ERIK, MOEST BEARRACH, TEL WIM TJIBBO, ALTINI VALERIO
Format:	Patent
Sprache:	eng ; kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	리소그래피 장치 및 리소그래피 프로세스를 제어하는 연관된 방법이 개시된다. 리소그래피 장치는 리소그래피 장치 내에서 기판의 위치 설정와 연관된 제어 그리드를 규정하도록 구성되는 제어기를 포함한다. 제어 그리드는, 패터닝 디바이스에 연관된 디바이스 레이아웃을 기초로 하여 리소그래피 프로세스에서 기판에 적용될 및/또는 적용된 디바이스 패턴을 규정한다. Disclosed is a lithographic apparatus and associated method of controlling a lithographic process. The lithographic apparatus comprises a controller configured to define a control grid associated with positioning of a substrate within the lithographic apparatus. The control grid is based on a device layout, associated with a patterning device, defining a device pattern which is to be, and/or has been, applied to the substrate in a lithographic process.