MEMS MEMS microphone and method of manufacturing the same
The present invention relates to a highly sensitive MEMS microphone and a method for manufacturing the same. The MEMS microphone according to an embodiment of the present invention includes: a substrate which has a through part formed in a central part; a vibrating film which has a concave-convex st...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | The present invention relates to a highly sensitive MEMS microphone and a method for manufacturing the same. The MEMS microphone according to an embodiment of the present invention includes: a substrate which has a through part formed in a central part; a vibrating film which has a concave-convex structure formed on an upper portion of the through part in an upper portion of the substrate; and a fixed film which is deposited on an upper position spaced apart from the vibrating film of the concave-convex structure by a predetermined distance.
본 발명은 고감도 MEMS 마이크로폰 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 MEMS 마이크로폰은 중앙부에 관통부가 형성되는 기판; 상기 기판 상부에 관통부 상부에 형성되는 요철 구조의 진동막; 상기 요철 구조의 진동막과 일정 간격 이격된 상부 위치에 증착된 고정막을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 MEMS 마이크로폰은 중앙부에 관통부가 형성되는 기판; 상기 기판 상부에 관통부 상부에 형성되는 요철 구조의 진동막; 상기 요철 구조의 진동막과 일정 간격 이격된 상부 위치에 증착된 고정막을 포함할 수 있다. |
---|