고체 비관능화된 흡착제에 적어도 하나의 부분적으로 수소화된 클로로디실란을 반응시켜 헥사클로로디실란을 수득하는 방법

본 발명은 하기 단계를 포함하는 헥사클로로디실란을 수득하는 방법에 관한 것이다: - 액체 상태의, 일반식 HxSi2Cl(6-x) - 여기서 x = 1 내지 5임 -의 적어도 하나의 부분적으로 수소화된 클로로디실란을, 실리케이트, 알루미노실리케이트, 유기 중합체 및 이들의 조합을 포함하는 군으로부터 선택되는 고체 비관능화된 흡착제 물질과 접촉시키는 단계, 및 - 선택적으로 헥사클로로디실란을 분리, 및/또는 선택적으로 흡착제 물질을 분리하는 단계. A process for obtaining hexachlorodisilane and us...

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Hauptverfasser: PAETZOLD UWE, STRASSER MONIKA, KNOTH JENS FELIX
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 하기 단계를 포함하는 헥사클로로디실란을 수득하는 방법에 관한 것이다: - 액체 상태의, 일반식 HxSi2Cl(6-x) - 여기서 x = 1 내지 5임 -의 적어도 하나의 부분적으로 수소화된 클로로디실란을, 실리케이트, 알루미노실리케이트, 유기 중합체 및 이들의 조합을 포함하는 군으로부터 선택되는 고체 비관능화된 흡착제 물질과 접촉시키는 단계, 및 - 선택적으로 헥사클로로디실란을 분리, 및/또는 선택적으로 흡착제 물질을 분리하는 단계. A process for obtaining hexachlorodisilane and uses for the same. The process includes contacting at least one partially hydrogenated chlorodisilane of general formula HxSi2Cl(6-x) where x is from 1 to 5 in the liquid state with a solid non-functionalized adsorber material that is selected from the group comprising silicates, aluminosilicates, organic polymer and/or combinations thereof. The process also includes optionally separating the hexachlorodisilane and/or optionally separating the adsorber material.