기화장치

기화장치(ORV(1))는, 열교환 패널(2)과, 열교환 패널(2)에 인접하여 배치되며 또한, 열매체를 열교환 패널의 외표면으로 흐르게 하는 트로프(3)를 구비한다. 트로프는 제1 방향으로 연장됨과 함께, 트로프의, 열교환 패널에 대향하는 측벽에는, 그 높이방향의 중간 위치에, 제1 방향으로 연장되는 슬릿(52)이 형성된다. 트로프 내에 저류된 열매체는, 슬릿을 통하여, 열교환 패널의 외표면으로 흐른다. A vaporizer (an ORV 1) includes heat exchange panels (2) and troughs (3)...

Ausführliche Beschreibung

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Hauptverfasser: IKESUE SHUNICHI, TONOIKE YOSHIRO, OKA MASARU
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:기화장치(ORV(1))는, 열교환 패널(2)과, 열교환 패널(2)에 인접하여 배치되며 또한, 열매체를 열교환 패널의 외표면으로 흐르게 하는 트로프(3)를 구비한다. 트로프는 제1 방향으로 연장됨과 함께, 트로프의, 열교환 패널에 대향하는 측벽에는, 그 높이방향의 중간 위치에, 제1 방향으로 연장되는 슬릿(52)이 형성된다. 트로프 내에 저류된 열매체는, 슬릿을 통하여, 열교환 패널의 외표면으로 흐른다. A vaporizer (an ORV 1) includes heat exchange panels (2) and troughs (3) arranged adjacent to the heat exchange panels and configured to supply a heat medium to outer surfaces of the heat exchange panels. The trough extends in a first direction, and a slit (52) extending in the first direction is formed at an intermediate position of a side wall, which faces the heat exchange panel, of the trough in a height direction. The heat medium accumulated in the trough flows to the outer surface of the heat exchange panel through the slit.