폴리 및 이의 제조를 위한 방법

본 발명은 하기 화학식 I에 따른 반복 단위 p, q 및 r을 포함하는 폴리(아릴렌 설파이드)(PAS)에 관한 것이다: [화학식 I] JPEGpct00015.jpg35123 상기 식에서, np, nq 및 nr은 각각 각각의 반복 단위 p, q 및 r의 몰 %이고; 반복 단위 p, q 및 r은 블록으로, 교대로 또는 무작위로 배열되고; 2 ≤ (nq + nr) / (np + nq + nr) ≤ 9이고; nq는 0% 이상이고, nr은 0% 이상이고; j는 0 또는 1 내지 4 사이의 정수이고; R1은 할로겐 원자, C1-C12 알킬 기...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GILKENSON BRITTANY, MARION PHILIPPE, CORBET MATTHIEU, CHEN HONG, JEOL STEPHANE, THOMAS DAVID B, GALEANDRO DIAMANT THOMAS
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은 하기 화학식 I에 따른 반복 단위 p, q 및 r을 포함하는 폴리(아릴렌 설파이드)(PAS)에 관한 것이다: [화학식 I] JPEGpct00015.jpg35123 상기 식에서, np, nq 및 nr은 각각 각각의 반복 단위 p, q 및 r의 몰 %이고; 반복 단위 p, q 및 r은 블록으로, 교대로 또는 무작위로 배열되고; 2 ≤ (nq + nr) / (np + nq + nr) ≤ 9이고; nq는 0% 이상이고, nr은 0% 이상이고; j는 0 또는 1 내지 4 사이의 정수이고; R1은 할로겐 원자, C1-C12 알킬 기, C7-C24 알킬아릴 기, C7-C24 아르알킬 기, C6-C24 아릴렌 기, C1-C12 알콕시 기 및 C6-C18 아릴옥시 기로 구성된 군으로부터 선택된다. The present invention relates to a poly(arylene sulfide) (PAS), comprising recurring units p, q and r according of formula (I) wherein np, nq and nr are respectively the mole % of each recurring units p, q and r; recurring units p, q and r are arranged in blocks, in alternation or randomly; 2≤(nq+nr)/(np+nq+nr)≤9; nq is ≥0% and nr is ≥0%; j is zero or an integer varying between 1 and 4; R1 is selected from the group consisting of halogen atoms, C1-C12 alkyl groups, C7-C24 alkylaryl groups, C7-C24 aralkyl groups, C6-C24 arylene groups, C1-C12 alkoxy groups, and C6-C18 aryloxy groups.