에칭 조성물

본 개시내용은, 예를 들어, 코발트 산화물 부산물을 실질적으로 형성하지 않으면서 반도체 기판으로부터 코발트(Co)를 선택적으로 제거하는 데 유용한 에칭 조성물(etching composition)에 관한 것이다. The present disclosure is directed to etching compositions that are useful for, e.g., selectively removing cobalt (Co) from a semiconductor substrate without substantially forming c...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	KNEER EMIL A
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ADHESIVES BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY DYES ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS POLISHES SEMICONDUCTOR DEVICES
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 개시내용은, 예를 들어, 코발트 산화물 부산물을 실질적으로 형성하지 않으면서 반도체 기판으로부터 코발트(Co)를 선택적으로 제거하는 데 유용한 에칭 조성물(etching composition)에 관한 것이다. The present disclosure is directed to etching compositions that are useful for, e.g., selectively removing cobalt (Co) from a semiconductor substrate without substantially forming cobalt oxide by-products.