Non-Thermal Plasma device for pollutants removal in ambient air and in exhaust gas
The present invention relates to a device for reducing pollutants in indoor and outdoor air or exhaust gas using low-temperature plasma, which comprises: a chamber which is a tube body, in which gas to be treated, which is composed of indoor/outdoor air containing pollutants or exhaust gas, flows th...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | The present invention relates to a device for reducing pollutants in indoor and outdoor air or exhaust gas using low-temperature plasma, which comprises: a chamber which is a tube body, in which gas to be treated, which is composed of indoor/outdoor air containing pollutants or exhaust gas, flows therein, and to which a grounding power source is connected; a power supply device disposed outside the chamber to continuously apply a voltage of a magnitude set in direct current or alternating current; an emitter which is a hollow tube having a plurality of cusps formed on an outer surface thereof for generating plasma, and disposed inside the chamber elongated in a direction parallel to the flow of the gas to be treated, and electrically connected to the power supply device to generate low-temperature plasma; a rod connecting the emitter and the power supply device electrically and supporting the emitter to be centrally disposed within the chamber; and an insulator electrically insulating the rod and the chamber to prevent an arcing occurring between the rod and the chamber. The present invention prevents strong arcing at high power consumption and induces weak arcing at low power consumption, thereby preventing a decrease in low-temperature plasma generation efficiency.
개시되는 저온 플라즈마를 이용한 실내외 대기 중 또는 배출가스 내 오염물질 저감장치는, 오염물질이 포함된 실내외 대기 또는 배출가스로 구성되는 처리대상가스가 내부에 유동하는 관체이며, 접지 전원이 연결되는 체임버; 상기 체임버 외부에 배치되어 직류 또는 교류로 설정된 크기의 전압을 연속 인가하는 전원공급장치; 외면에 플라즈마를 발생하기 위한 복수의 첨단(cusp)이 형성된 속이 빈 관체로서, 상기 처리대상가스의 유동과 평행한 방향으로 길게 상기 체임버 내부에 배치되고, 상기 전원공급장치와 전기적으로 연결되어 저온 플라즈마를 발생시키는 이미터; 상기 이미터와 상기 전원공급장치를 전기적으로 연결하고, 상기 이미터가 상기 체임버의 내부 중앙에 배치되도록 지지하는 로드; 및 상기 로드와 상기 체임버를 전기적으로 절연(絶緣)시켜, 상기 로드와 상기 체임버 사이에서 발생하는 아킹(arcing)현상을 방지하는 인썰레이터;를 가지진다. |
---|