TRANSPARENT POROUS POLYSILOXANE SUBSTRATE AND THE METHOD PREPARING THE SAME
The present invention relates to a transparent porous polysiloxane substrate and a method for manufacturing the same. Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing a transparent porous polysiloxane substrate easily and economically, by using an organic solvent with excelle...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | The present invention relates to a transparent porous polysiloxane substrate and a method for manufacturing the same. Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing a transparent porous polysiloxane substrate easily and economically, by using an organic solvent with excellent affinity for both water and a siloxane-based prepolymer. More specifically, the present invention relates to a transparent porous polysiloxane substrate that has closed pores with a uniform diameter distribution by controlling the average diameter of the closed pores, and thus has high light transmittance in the visible light range, and to a method for manufacturing the same.
본 발명은 다공성 투명 실록산계 중합체 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 물과 실록산계 예비중합체와의 친화성이 우수한 유기용매를 이용하여 쉽고 경제적으로 다공성 투명 실록산계 중합체 기판을 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 가시광 범위에서 높은 광투과도를 가질 수 있도록 닫힌 기공의 평균직경이 제어되고 균일한 직경분포의 닫힌 기공을 가지는 다공성 투명 실록산계 중합체 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다. |
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