Rg2 Cosmetic composition for skin regeneration containing Rg2 and piceatannol mixtures as active ingredients

본 발명은 Rg2 및 피세아탄놀 혼합물을 유효성분으로 함유하는 피부 재생용 화장료 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진세노사이드 Rg2(ginsenoside Rg2) 및 피세아탄놀(piceatannol) 혼합물을 유효성분으로 함유한다. 이에 따라, 본 발명에 따른 Rg2 및 피세아탄놀 혼합물을 유효성분으로 함유하는 피부 재생용 화장료 조성물은 세포독성의 문제가 없고, 자외선에 의하여 손상된 피부세포의 생존율을 증가시키며, 활성산소를 저감시킨다. 또한, 자외선에 의하여 손상된 DNA를 회복시킨다....

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Hauptverfasser: JEONG SEULA, PARK JONG KUN, CHUNG YU HEON, CHO HA YAN
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Zusammenfassung:본 발명은 Rg2 및 피세아탄놀 혼합물을 유효성분으로 함유하는 피부 재생용 화장료 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진세노사이드 Rg2(ginsenoside Rg2) 및 피세아탄놀(piceatannol) 혼합물을 유효성분으로 함유한다. 이에 따라, 본 발명에 따른 Rg2 및 피세아탄놀 혼합물을 유효성분으로 함유하는 피부 재생용 화장료 조성물은 세포독성의 문제가 없고, 자외선에 의하여 손상된 피부세포의 생존율을 증가시키며, 활성산소를 저감시킨다. 또한, 자외선에 의하여 손상된 DNA를 회복시킨다.