LASER PROCESSING APPARTUS FOR QUARTZ WARE AND LASER PROCESSING METHOD FOR QUARTZ WARE
Embodiments of the present invention provide a laser processing apparatus for quartz wear and a laser processing method for quartz wear. The laser processing apparatus for quartz wear according to an embodiment of the present invention comprises: a laser oscillation unit that oscillates a laser beam...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | Embodiments of the present invention provide a laser processing apparatus for quartz wear and a laser processing method for quartz wear. The laser processing apparatus for quartz wear according to an embodiment of the present invention comprises: a laser oscillation unit that oscillates a laser beam; a splitting unit for splitting the laser beam into a laser beam having a first polarization state and a laser beam having a second polarization state; a first equalization unit for equalizing the energy distribution of the laser beam having the first polarization state; and an irradiation lens unit for irradiating the equalized laser beam. An object of the present invention is to provide the laser processing apparatus for quartz wear and the laser processing method for quartz wear that can precisely process quartz wear.
본 발명의 실시예들은 쿼츠 웨어용 레이저 가공 장치 및 쿼츠 웨어용 레이저 가공 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 쿼츠 웨어용 레이저 가공 장치는 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진 유닛, 상기 레이저 빔을 제1 편광 상태를 갖는 레이저 빔과 제2 편광 상태를 레이저 빔으로 스플릿시키는 스플릿 유닛, 상기 제1 편광 상태를 갖는 레이저 빔의 에너지 분포를 균일화하는 제1 균일화 유닛 및 상기 균일화된 레이저 빔을 조사하는 조사 렌즈 유닛를 포함한다. |
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