광학 요소의 지지

본 발명은 광학 요소(109) 및 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하는, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치에 관한 것이다. 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하며, 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 연결되고 원주방향을 따라 분포되고 서로 이격되는 방식으로 배열된다. 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에 대해 광학 요소(109)를 유지한다. 여기서, 각각의 유지 유닛(110.2)은 광학 요소(109)와 베이스 요소(110.1) 사이에 클램핑 연결을 확립하고, 상기 클램핑 연결은 다른 유지 유닛(110.2)의 클램핑 연결과 별개이다. An optical arrangement of an imaging device for microlithography, particularly for using light in the extreme UV range, includes an optical element and a holding device for holding the optical element. The optical element includes an optical surface and defines a plane of main extension, in which the optical element defines a radial direction and a circumferential direction. The holding device includes a base element and more than three separate holding units. The holding units are connected to the base element and arranged in a manner distributed along the circumferential direction and spaced apart from one another. The holding units hold the optical element with respect to the base element. Each of the holding units establishes a clamping connection between the optical element and the base element. The clamping connection for each holding unit is separate from the clamping connections of the other holding units.