Apparatus and method for manufacturing a display device

The present invention relates to a display device manufacturing apparatus and a display device manufacturing method, improved by reducing manufacturing time and defect ratio of a display device by indiscriminately inspecting the degree of crystallinity of silicon. Provided is the display device manufacturing apparatus comprising: a light source irradiating a display substrate including a plurality of hillocks; and a photographing unit disposed on the same side as the light soruce and taking a photograph of light which comes out from the light source and is reflected at the plurality of hillocks. The light incident on the photographing unit has a plurality of wavelengths, and the plurality of wavelengths are generated by a difference in paths of light reflected respectively on a first surface of a first hillock and a second surface of a second hillock, in parallel with the first hillock, among the plurality of hillocks. 본 발명은 일률적으로 실리콘의 결정화도를 검사하여 공정 시간 단축 및 표시 장치의 불량률 감소 등을 개선한 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법을 위하여, 복수개의 힐록(hillock)을 포함하는 디스플레이 기판 상에 광을 조사하는, 광원; 및 상기 광원과 동일 측에 배치되며, 상기 광원으로부터 나와 상기 복수개의 힐록에 반사된 광을 촬상하는, 촬영부;를 포함하고, 상기 촬영부에 입사하는 광은 복수개의 파장을 가지며, 상기 복수개의 파장은 상기 복수개의 힐록 중 제1힐록의 제1면 및 상기 제1면과 평행한 제2힐록의 제2면에 각각 반사된 광의 경로 차이에 의해 형성된, 표시 장치의 제조 장치를 제공한다.