COLLOIDAL SILICA SLURRY
Provided is high-purity colloidal silica slurry including a high concentration of silica and maintaining nutrient dispersibility, which assists in improving storage and transport efficiency and a degree of freedom in mixing an abrasive. The colloidal silica slurry includes: (A) silica; (B) water; an...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | Provided is high-purity colloidal silica slurry including a high concentration of silica and maintaining nutrient dispersibility, which assists in improving storage and transport efficiency and a degree of freedom in mixing an abrasive. The colloidal silica slurry includes: (A) silica; (B) water; and (C) a dispersant, wherein a concentration of the (A) silica is 25 wt% or more, and the (C) dispersant has the following molecular structural characteristics of (a), (b), and (c) in one molecule: (a) both a basic nitrogen group and an acidic group are provided; (b) a number of basic nitrogen groups is 1 or 2; and (c) a number of acidic groups is greater than the number of the basic nitrogen groups.
[과제] 보관 및 수송의 효율, 더욱이 연마제의 배합 자유도의 향상에 도움이 되는, 고농도의 실리카를 포함하고 또한 양분산성을 유지한 고순도 콜로이달 실리카 슬러리를 제공한다. [해결 수단] (A) 실리카, (B) 물, 및 (C) 분산제를 포함하는 콜로이달 실리카 슬러리이고, 상기 (A) 실리카의 농도가 25중량퍼센트 이상이며, 상기 (C) 분산제가, 이하의 (a), (b) 및 (c)의 분자 구조적 특징을 1분자 중에 가지는 것을 특징으로 하는 콜로이달 실리카 슬러리. (a) 염기성 질소기 및 산성기의 양방을 가진다 (b) 염기성 질소기의 수가 1개 또는 2개이다 (c) 산성기의 수가 염기성 질소기의 수보다 많다 |
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