Supporting unit substrate processing apparatus including same and substrate processing method

The present invention provides a support unit for supporting a substrate. The support unit includes: a support plate which has an inner space and on which a substrate is placed; a heating member provided in the inner space and configured to heat the substrate placed on the support plate; a heat insulating plate provided in the inner space and disposed under the heating member; a reflective plate provided in the inner space and disposed under the heat insulating plate; and a heat radiation plate provided in the inner space and disposed under the heat insulating plate. 본 발명은 기판을 지지하는 지지 유닛을 제공한다. 지지 유닛은, 내부 공간을 가지며, 기판이 놓이는 지지판과; 상기 내부 공간에 제공되고, 상기 지지판에 놓인 기판을 가열하는 가열 부재와; 상기 내부 공간에 제공되고, 상기 가열 부재 아래에 배치되는 단열판과; 상기 내부 공간에 제공되고, 상기 단열판 아래에 배치되는 반사판과; 상기 내부 공간에 제공되고, 상기 단열판 아래에 배치되는 방열판을 가질 수 있다.