다공질층의 제조 방법, 적층체, 비수 전해액 이차 전지용 세퍼레이터 및 비수 전해액 이차 전지

본 발명의 목적은 막 두께 정밀도가 우수한 다공질층을 제조하는 것이다. 본 발명에 따른 다공질층의 제조 방법은, 비도전성의 용매와 입자를 포함하는 도포 시공액을, 도포 시공 장치와 기재 사이를 통과시킴으로써 기재의 면에 도포 시공하는 공정과, 기재의 면에 도포 시공한 상기 도포 시공액으로부터, 상기 비도전성의 용매를 제거하는 공정을 포함하고, 상기 도포 시공액이 도포 시공 장치와 기재 사이를 통과할 때의 도포 시공 장치와 기재의 전위차가 1.0×105V/ｍ 이상이다. The purpose of the present invention...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	HASHIWAKI HIROKI
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F,C08G APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON ELECTRICITY GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING METALLURGY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PERFORMING OPERATIONS PROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSIONOF CHEMICAL INTO ELECTRICAL ENERGY SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP TRANSPORTING WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명의 목적은 막 두께 정밀도가 우수한 다공질층을 제조하는 것이다. 본 발명에 따른 다공질층의 제조 방법은, 비도전성의 용매와 입자를 포함하는 도포 시공액을, 도포 시공 장치와 기재 사이를 통과시킴으로써 기재의 면에 도포 시공하는 공정과, 기재의 면에 도포 시공한 상기 도포 시공액으로부터, 상기 비도전성의 용매를 제거하는 공정을 포함하고, 상기 도포 시공액이 도포 시공 장치와 기재 사이를 통과할 때의 도포 시공 장치와 기재의 전위차가 1.0×105V/ｍ 이상이다. The purpose of the present invention is to produce a porous layer which has excellent film thickness accuracy. This method for producing a porous layer includes: a step of coating a surface of a substrate with a coating liquid that comprises a non-conductive solvent and particles by passing the coating liquid between a coating device and the substrate; and a step of removing the non-conductive solvent from the coating liquid applied on the surface of the substrate. The electric potential difference between the coating device and the substrate when the coating liquid passes between the coating device and the substrate is 1.0×105 V/m or more.