입자 및 도펀트로 함께 블라스팅된 부착된 도펀트를 갖는 코팅된 기판

본 발명은, (a) 표면의 적어도 일부가 도펀트로 부착되도록 연마 입자 및 도펀트와 충돌된 표면; 및 (b) 상기 충돌된 표면의 적어도 일부 위의 막 형성 층을 포함하는 코팅된 기판으로서, 여기서 상기 막 형성 층이 막 형성 조성물로부터 침착되고; 여기서 상기 표면이 연마 입자 및 도펀트와 실질적으로 동시에 충돌되며; 여기서 상기 도펀트가 인산철, 인산아연, 인산망간, 산화세륨을 포함하고, 상기 막 형성 조성물이 2성분 에폭시 클리어 코트가 아닌, 코팅된 기판에 관한 것이다. The present invention is direct...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KALSANI VENKATESHWARLU, NEDERLOF ARNOLD, VAN DER KOLK KEES, BREON JONATHAN P, MARTIN JUSTIN J, VELLINGA ARJEN, CONNOR DANIEL, RAKERS NICOLE LYNN, DURGIN KATHERINE M
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:본 발명은, (a) 표면의 적어도 일부가 도펀트로 부착되도록 연마 입자 및 도펀트와 충돌된 표면; 및 (b) 상기 충돌된 표면의 적어도 일부 위의 막 형성 층을 포함하는 코팅된 기판으로서, 여기서 상기 막 형성 층이 막 형성 조성물로부터 침착되고; 여기서 상기 표면이 연마 입자 및 도펀트와 실질적으로 동시에 충돌되며; 여기서 상기 도펀트가 인산철, 인산아연, 인산망간, 산화세륨을 포함하고, 상기 막 형성 조성물이 2성분 에폭시 클리어 코트가 아닌, 코팅된 기판에 관한 것이다. The present invention is directed to a coated substrate comprising: (a) a surface that has been impacted with an abrasive particle and a dopant such that at least some portion of the surface becomes attached with the dopant; and (b) a film-forming layer on at least a portion of the impacted surface, wherein the film-forming layer has been deposited from a film-forming composition; wherein the surface is impacted substantially simultaneously with the abrasive particle and the dopant; and wherein when the dopant comprises iron phosphate, zinc phosphate, manganese phosphate, cerium oxide, the film-forming composition is not a two-component epoxy clear coat.