Surface-modified Substrate with Vinyl Heterocycle compound and Method for Surface-modification thereof

The present invention relates to a substrate in which at least a part of the surface is modified with a vinyl heterocycle compound or an oligomer or (co)polymer thereof, and a method for modifying the surface thereof. More specifically, provided is a substrate modified with a heterocyclic compound h...

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Hauptverfasser: HYUNG JIN PARK, KYONGHOON LEE, JOHN S. ALTHAUS
Format: Patent
Sprache:eng ; kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:The present invention relates to a substrate in which at least a part of the surface is modified with a vinyl heterocycle compound or an oligomer or (co)polymer thereof, and a method for modifying the surface thereof. More specifically, provided is a substrate modified with a heterocyclic compound having a vinyl group or an oligomer or (co)polymer thereof. In addition, the present invention provides a method for modifying a surface, including the steps of: providing an aqueous solution of a heterocyclic compound having a vinyl group; bringing the aqueous solution in contact with at least a part of the substrate surface; and washing and drying the substrate. 본 발명은 표면의 적어도 일부가 비닐 헤테로사이클 화합물, 그의 올리고머 또는 (공)중합체로 개질된 기질 및 그 표면 개질방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 비닐기를 갖는 헤테로사이클 화합물 또는 그의 올리고머 또는 (공)중합체로 개질된 기질을 제공한다. 또한, 본 발명은 비닐기를 갖는 헤테로사이클 화합물의 수용액을 제공하는 단계, 상기 수용액을 기질 표면의 적어도 일부에 접촉시키는 단계, 상기 기질을 세척 및 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기질의 표면개질 방법을 제공한다.