SUBSTRATE TREATING APPARATUS

A substrate processing apparatus having improved reliability according to an embodiment of the present invention comprises: an input unit to which a substrate is transferred; a first roller disposed adjacent to the input unit; a second roller spaced apart from the first roller in a first direction; a belt wound around the first roller and the second roller, and comprising a first region and a second region adjacent the first region; a first film disposed over the first region; and a second film disposed on the first film and having a modulus different from a modulus of the first film. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판이 이송되는 투입부, 상기 투입부와 인접하게 배치되는 제1 롤러, 상기 제1 롤러와 제1 방향으로 이격되어 배치된 제2 롤러, 상기 제1 롤러 및 상기 제2 롤러에 감기고, 제1 영역 및 상기 제1 영역과 인접한 제2 영역을 포함하는 벨트, 상기 제1 영역 위에 배치되는 제1 필름, 및 상기 제1 필름 위에 배치되며 상기 제1 필름의 모듈러스와 상이한 모듈러스를 갖는 제2 필름을 포함할 수 있다.