고 개구수 스루-슬릿 소스 마스크 최적화 방법

본 명세서에서, 리소그래피 투영 장치를 사용한 소스 마스크 최적화를 위한 방법이 설명된다. 리소그래피 투영 장치는 기판 상에 마스크 디자인 레이아웃을 이미징하도록 구성되는 조명 소스 및 투영 광학기를 포함한다. 상기 방법은 조명 소스, 투영 광학기, 및 마스크 디자인 레이아웃에 대한 복수의 조정가능한 디자인 변수들을 사용하여 다변수 소스 마스크 최적화 함수를 결정하는 단계를 포함한다. 다변수 소스 마스크 최적화 함수는 노광 장치의 동일한 슬릿 위치에 의해 노광되는 마스크 디자인 레이아웃의 상이한 스트라이프들에 대응하는 노광 슬릿에서...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	VAN SETTEN EELCO, TROOST KARS ZEGER, HSU DUAN FU STEPHEN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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