고 개구수 스루-슬릿 소스 마스크 최적화 방법

본 명세서에서, 리소그래피 투영 장치를 사용한 소스 마스크 최적화를 위한 방법이 설명된다. 리소그래피 투영 장치는 기판 상에 마스크 디자인 레이아웃을 이미징하도록 구성되는 조명 소스 및 투영 광학기를 포함한다. 상기 방법은 조명 소스, 투영 광학기, 및 마스크 디자인 레이아웃에 대한 복수의 조정가능한 디자인 변수들을 사용하여 다변수 소스 마스크 최적화 함수를 결정하는 단계를 포함한다. 다변수 소스 마스크 최적화 함수는 노광 장치의 동일한 슬릿 위치에 의해 노광되는 마스크 디자인 레이아웃의 상이한 스트라이프들에 대응하는 노광 슬릿에서의 상이한 위치들에 걸친 이미징 변동을 설명한다. 상기 방법은 종료 조건이 충족될 때까지 다변수 소스 마스크 최적화 함수에서 복수의 조정가능한 디자인 변수들을 반복적으로 조정하는 단계를 포함한다. A method for source mask optimization with a lithographic projection apparatus. The method includes determining a multi-variable source mask optimization function using a plurality of tunable design variables for an illumination system of the lithographic projection apparatus, a projection optics of the lithographic projection apparatus to image a mask design layout onto a substrate, and the mask design layout. The multi-variable source mask optimization function may account for imaging variation across different positions in an exposure slit corresponding to different stripes of the mask design layout exposed by a same slit position of the exposure apparatus. The method includes iteratively adjusting the plurality of tunable design variables in the multi-variable source mask optimization function until a termination condition is satisfied.