동적 레벨링을 갖는 동축 리프트 디바이스

본원에서 설명되는 실시예들은 일반적으로, 동축 리프트 디바이스들을 갖는 프로세스 챔버들에 관한 것이다. 일부 실시예들에서, 디바이스는 최하부 보울 리프트 및 페데스탈 리프트 둘 모두를 포함한다. 최하부 보울 리프트는 최하부 보울을 지지하며, 프로세스 볼륨을 감소시키는 포지션으로 최하부 보울을 이동시키도록 구성된다. 최하부 보울 리프트는 페데스탈 리프트와 동축이며, 최하부 보울 리프트 및 페데스탈 리프트는 진공 동작을 위해 부착된다. 페데스탈 리프트는 동적 리프트 메커니즘을 생성하기 위한 다수의 액추에이터들을 포함한다. 시스템들 둘...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	BANSAL AMIT KUMAR, BLAHNIK JEFFREY CHARLES, SCHALLER JASON M
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SEMICONDUCTOR DEVICES SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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