동적 레벨링을 갖는 동축 리프트 디바이스

본원에서 설명되는 실시예들은 일반적으로, 동축 리프트 디바이스들을 갖는 프로세스 챔버들에 관한 것이다. 일부 실시예들에서, 디바이스는 최하부 보울 리프트 및 페데스탈 리프트 둘 모두를 포함한다. 최하부 보울 리프트는 최하부 보울을 지지하며, 프로세스 볼륨을 감소시키는 포지션으로 최하부 보울을 이동시키도록 구성된다. 최하부 보울 리프트는 페데스탈 리프트와 동축이며, 최하부 보울 리프트 및 페데스탈 리프트는 진공 동작을 위해 부착된다. 페데스탈 리프트는 동적 리프트 메커니즘을 생성하기 위한 다수의 액추에이터들을 포함한다. 시스템들 둘 모두는, 최하부 보울 리프트가 조정가능하며 최하부 보울을 폐쇄하여서 대칭적이고 작은 프로세스 볼륨을 생성할 수 있도록, 중첩 시스템을 완성한다. 페데스탈 리프트는, 최하부 보울 리프트에 대한 간섭 없이, 자신의 프로세스 포지션으로 독립적으로 이동하고 원하는 방향으로 기울어져서, 프로세싱되는 기판 상의 필름 균일성을 증가시킬 수 있다. Embodiments described herein generally relate to process chambers with coaxial lift devices. In some embodiments, the device comprises both a bottom bowl lift and a pedestal lift. The bottom bowl lift supports a bottom bowl and is configured to move the bottom bowl into a position that reduces the process volume. The bottom bowl lift is co-axial with the pedestal lift and the bottom bowl lift and the pedestal lift are attached for vacuum operation. The pedestal lift includes multiple actuators to create a dynamic lift mechanism. Both systems complete a nested system such that the bottom bowl lift is adjustable and can close the bottom bowl creating a symmetric and small process volume. The pedestal lift can move independently to its process position and tilt in a desired direction without interference with the bottom bowl lift, increasing film uniformity on a processed substrate.