SCRUBBER FOR SHIP
Disclosed is a scrubber for a ship. The scrubber for a ship according to an embodiment of the present invention comprises: a housing provided on a ship; and a processing unit for processing exhaust gas flowing into the housing. The processing unit comprises: a pre-processing unit provided inside the...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; kor |
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Zusammenfassung: | Disclosed is a scrubber for a ship. The scrubber for a ship according to an embodiment of the present invention comprises: a housing provided on a ship; and a processing unit for processing exhaust gas flowing into the housing. The processing unit comprises: a pre-processing unit provided inside the housing and pre-processing the exhaust gas by spraying a processing liquid on the exhaust gas to cool the exhaust gas flowing into the side of the housing; and a post-processing unit disposed inside the housing and above the pre-processing unit and post-processing the exhaust gas by spraying a processing liquid to remove sulfur oxides from the exhaust gas pre-processed in the pre-processing unit. The housing is not connected to a venturi tube on the outside. The pre-processing unit does not have an exhaust gas flow path dividing an inner space. In the housing, a common drainage space in which the processing liquid sprayed from the pre-processing unit to pre-process the exhaust gas and the processing liquid sprayed from the post-processing unit to post-process the exhaust gas are collected at a lower part of the pre-processing unit. Accordingly, the manufacturing cost of the scrubber for a ship can be reduced.
선박용 스크러버를 개시한다. 본 발명의 일실시예에 따른 선박용 스크러버는 선박에 구비되는 하우징; 및 상기 하우징에 유입되는 배기가스를 처리하는 처리유닛; 을 포함하고, 상기 처리유닛은 상기 하우징의 내부에 구비되고 상기 하우징의 측면으로 유입되는 배기가스가 냉각되도록 배기가스에 처리액을 분사하여 배기가스를 전처리하는 전처리유닛과, 상기 하우징의 내부에 상기 전처리유닛의 상부에 배치되도록 구비되고 상기 전처리유닛에서 전처리된 배기가스로부터 황산화물이 제거되도록 처리액을 분사하여 배기가스를 후처리하는 후처리유닛을 포함하며, 상기 하우징은 외부에 벤츄리관이 연결되지 않고, 상기 전처리유닛은 내부공간을 구획하는 배기가스 유로를 구비하지 않으며, 상기 하우징의 내부에는 상기 전처리유닛에서 분사되어 배기가스를 전처리한 처리액과 상기 후처리유닛에서 분사되어 배기가스를 후처리한 처리액이 함께 모아지는 공용배수공간이 상기 전처리유닛의 하부에 구비될 수 있다. |
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