폴리티올 조성물

본 발명은, (a) 2 개 이상의 티올 기를 갖는 폴리티올 화합물 (A); 및 (b) 화학식 I로 표시되는 질소-함유 화합물 (B)를 포함하는 폴리티올 조성물에 관한 것이다. 화학식 I에서, -S-R은 폴리티올 화합물 (A)의 잔기이다. 상기 질소-함유 화합물 (B)의 피크 면적은, 100의 폴리티올 화합물 (A)의 피크 면적에 대해 3.0 이하이다. 화합물 (A) 및 (B)에 대한 각각의 피크 면적은 고성능 액체 크로마토그래피 분석에 의해 결정된다. 본 발명은 또한 폴리티올 조성물 및 이의 중합물을 포함하는 중합성 조성물에 관한...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	HICKENBOTH CHARLES R. III, DAVIC ANDREW, MAINS DARYL, BADARINARAYANA VIVEK
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS CHEMISTRY COMPOSITIONS BASED THEREON HETEROCYCLIC COMPOUNDS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS METALLURGY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORGANIC CHEMISTRY ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PHYSICS THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP
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Beschreibung
Zusammenfassung:	본 발명은, (a) 2 개 이상의 티올 기를 갖는 폴리티올 화합물 (A); 및 (b) 화학식 I로 표시되는 질소-함유 화합물 (B)를 포함하는 폴리티올 조성물에 관한 것이다. 화학식 I에서, -S-R은 폴리티올 화합물 (A)의 잔기이다. 상기 질소-함유 화합물 (B)의 피크 면적은, 100의 폴리티올 화합물 (A)의 피크 면적에 대해 3.0 이하이다. 화합물 (A) 및 (B)에 대한 각각의 피크 면적은 고성능 액체 크로마토그래피 분석에 의해 결정된다. 본 발명은 또한 폴리티올 조성물 및 이의 중합물을 포함하는 중합성 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a polythiol composition that includes (a) a polythiol compound (A) having at least two thiol groups; and (b) a nitrogen-containing compound (B) represented by the following Formula (I),In Formula (I), -S-R is a residue of the polythiol compound (A). A peak area of the nitrogen-containing compound (B) is equal to or less than 3.0, with respect to a peak area of 100 of the polythiol compound (A). Each peak area for compounds (A) and (B) is determined by high performance liquid chromatography analysis. The present invention also relates to a polymerizable composition that includes the polythiol composition, and polymerizates thereof.