입자들을 측정하기 위한 방법 및 장치
부품의 임계 표면 상의 오염을 측정하기 위한 장치가 제공된다. 부품을 장착하기 위한 용기가 제공된다. 불활성 가스 소스가 용기와 유체로 연결되고 용기에 불활성 가스를 제공하도록 구성된다. 적어도 하나의 확산기가 용기로부터 불활성 가스를 수용하고, 부품이 용기 내에 장착될 때 부품의 임계 표면이 불활성 가스에 노출된다. 적어도 하나의 분석기가 적어도 하나의 확산기로부터 불활성 가스를 수용하도록 구성되고 불활성 가스 내의 오염 물질들을 측정한다. An apparatus for measuring contamination on a crit...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 부품의 임계 표면 상의 오염을 측정하기 위한 장치가 제공된다. 부품을 장착하기 위한 용기가 제공된다. 불활성 가스 소스가 용기와 유체로 연결되고 용기에 불활성 가스를 제공하도록 구성된다. 적어도 하나의 확산기가 용기로부터 불활성 가스를 수용하고, 부품이 용기 내에 장착될 때 부품의 임계 표면이 불활성 가스에 노출된다. 적어도 하나의 분석기가 적어도 하나의 확산기로부터 불활성 가스를 수용하도록 구성되고 불활성 가스 내의 오염 물질들을 측정한다.
An apparatus for measuring contamination on a critical surface of a part is provided. A vessel for mounting the part is provided. An inert gas source is in fluid connection with the vessel and adapted to provide an inert gas to the vessel. At least one diffuser receives the inert gas from the vessel, wherein the critical surface of the part is exposed to the inert gas when the part is mounted in the vessel. At least one analyzer is adapted to receive inert gas from the at least one diffuser and measures contaminants in the inert gas. |
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