광학 시스템, 계측 장치 및 관련 방법
계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다. There...
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| description | 계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다.
There is described an optical system (400) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest of a substrate in a metrology apparatus. The beam of radiation comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system comprises a first reflector system (410) and a second reflector system (412). Each of the first and second reflector systems (410, 412) comprises a finite-to-finite Wolter reflector system. The optical system (400) is configured to form, on the region of interest, a demagnified image (414) of an object (416) comprising an apparent source of the beam of radiation (B). |
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There is described an optical system (400) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest of a substrate in a metrology apparatus. The beam of radiation comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system comprises a first reflector system (410) and a second reflector system (412). Each of the first and second reflector systems (410, 412) comprises a finite-to-finite Wolter reflector system. The optical system (400) is configured to form, on the region of interest, a demagnified image (414) of an object (416) comprising an apparent source of the beam of radiation (B).</description><language>kor</language><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MATERIALS THEREFOR ; MEASURING ; ORIGINALS THEREFOR ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES ; PHYSICS ; TESTING ; X-RAY TECHNIQUE</subject><creationdate>2021</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210422&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210044289A$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76294</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20210422&DB=EPODOC&CC=KR&NR=20210044289A$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>VAN VOORST PETER DANNY</creatorcontrib><title>광학 시스템, 계측 장치 및 관련 방법</title><description>계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다.
There is described an optical system (400) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest of a substrate in a metrology apparatus. The beam of radiation comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system comprises a first reflector system (410) and a second reflector system (412). Each of the first and second reflector systems (410, 412) comprises a finite-to-finite Wolter reflector system. The optical system (400) is configured to form, on the region of interest, a demagnified image (414) of an object (416) comprising an apparent source of the beam of radiation (B).</description><subject>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MATERIALS THEREFOR</subject><subject>MEASURING</subject><subject>ORIGINALS THEREFOR</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>TESTING</subject><subject>X-RAY TECHNIQUE</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2021</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDB8tWXi26kzFd50z3nTteRt6xwdhVebW97sWKjwZt7SNztnKLze0K_wakvD6wUrgMyVrzdN5WFgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8d5BRgZGhgYGJiZGFpaOxsSpAgAINzko</recordid><startdate>20210422</startdate><enddate>20210422</enddate><creator>VAN VOORST PETER DANNY</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20210422</creationdate><title>광학 시스템, 계측 장치 및 관련 방법</title><author>VAN VOORST PETER DANNY</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_KR20210044289A3</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>kor</language><creationdate>2021</creationdate><topic>APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MATERIALS THEREFOR</topic><topic>MEASURING</topic><topic>ORIGINALS THEREFOR</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>TESTING</topic><topic>X-RAY TECHNIQUE</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>VAN VOORST PETER DANNY</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>VAN VOORST PETER DANNY</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>광학 시스템, 계측 장치 및 관련 방법</title><date>2021-04-22</date><risdate>2021</risdate><abstract>계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다.
There is described an optical system (400) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest of a substrate in a metrology apparatus. The beam of radiation comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system comprises a first reflector system (410) and a second reflector system (412). Each of the first and second reflector systems (410, 412) comprises a finite-to-finite Wolter reflector system. The optical system (400) is configured to form, on the region of interest, a demagnified image (414) of an object (416) comprising an apparent source of the beam of radiation (B).</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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