광학 시스템, 계측 장치 및 관련 방법

계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다. There...

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	VAN VOORST PETER DANNY
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MATERIALS THEREFOR MEASURING ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS TESTING X-RAY TECHNIQUE
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Beschreibung
Zusammenfassung:	계측 장치에서 기판의 관심 영역 상에 방사선 빔(B)을 포커싱하기 위한 광학 시스템(400)에 관해 기술되어 있다. 방사선 빔은 연질 X-선 또는 극자외선 스펙트럼 범위의 방사선을 포함한다. 광학 시스템은 제1 반사기 시스템(410) 및 제2 반사기 시스템(412)을 포함한다. 제1 및 제2 반사기 시스템(410, 412)은 각각 유한-대-유한 월터 반사기 시스템을 포함한다. 광학 시스템(400)은, 관심 영역 상에, 방사선 빔(B)의 겉보기 소스를 포함하는 대상물(416)의 축소 이미지(414)를 형성하도록 구성된다. There is described an optical system (400) for focusing a beam of radiation (B) on a region of interest of a substrate in a metrology apparatus. The beam of radiation comprises radiation in a soft X-ray or Extreme Ultraviolet spectral range. The optical system comprises a first reflector system (410) and a second reflector system (412). Each of the first and second reflector systems (410, 412) comprises a finite-to-finite Wolter reflector system. The optical system (400) is configured to form, on the region of interest, a demagnified image (414) of an object (416) comprising an apparent source of the beam of radiation (B).