습식 청소 장치

습식 청소 장치(WCD)는 표면을 습식 청소하기 위한 걸레질 유닛(MU), 및 흡입에 의해 표면에 대한 걸레질 유닛의 압력을 증가시키기 위한 설비(ST)를 포함한다. 설비(ST)는 걸레질 유닛(MU)의 일 측부에 있는 호스를 포함하고, 호스는 표면에 흡입을 가하기 위한 개구를 갖는다. 호스는 걸레질 유닛(MU)의 반대 측부들에 존재할 수 있다. 대안적으로, 호스는 걸레질 유닛(MU) 둘레에 존재할 수 있다. 바람직하게는, 설비의 흡입력이 제어가능하다. 유리하게는, 흡입력은 얼룩의 검출, 습식 청소 장치(WCD)의 속도, 및/또는 표...

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Hauptverfasser: SCHALLIG MICHIEL ALLAN AURELIUS, MEULENDIJKS ANKE RIEKA
Format: Patent
Sprache:kor
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Beschreibung
Zusammenfassung:습식 청소 장치(WCD)는 표면을 습식 청소하기 위한 걸레질 유닛(MU), 및 흡입에 의해 표면에 대한 걸레질 유닛의 압력을 증가시키기 위한 설비(ST)를 포함한다. 설비(ST)는 걸레질 유닛(MU)의 일 측부에 있는 호스를 포함하고, 호스는 표면에 흡입을 가하기 위한 개구를 갖는다. 호스는 걸레질 유닛(MU)의 반대 측부들에 존재할 수 있다. 대안적으로, 호스는 걸레질 유닛(MU) 둘레에 존재할 수 있다. 바람직하게는, 설비의 흡입력이 제어가능하다. 유리하게는, 흡입력은 얼룩의 검출, 습식 청소 장치(WCD)의 속도, 및/또는 표면의 유형에 따라 제어가능하다. 습식 청소 장치(WCD)가 걸레질 로봇 진공 청소기에 의해 형성되는 경우, 설비(ST)를 위한 흡입은 유리하게는 진공 청소를 위해 생성된 흡입의 일부이다. A wet cleaning device (WCD) comprises a mopping unit (MU) for wet cleaning a surface, and an arrangement (ST) for increasing a pressure of the mopping unit (MU) to the surface by means of suction. In one embodiment, the arrangement includes a hose at a side of the mopping unit(MU), the hose having an opening for applying suction to the surface. The hose may be present at opposite sides of the mopping unit(MU). Alternatively, the hose may be present around the mopping unit(MU). Preferably, a suction power of the arrangement is controllable. Advantageously, the suction power is controllable in dependence on a detection of stains, a speed of the wet cleaning device (WCD), and/or a type of the surface. If the wet cleaning device (WCD) is formed by a mopping robot vacuum cleaner, the suction for the arrangement (ST) is advantageously a part of a suction generated for vacuum cleaning.