SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD

An object of the present invention is to supply a processing liquid having an accurate concentration to a substrate. Provided is a substrate liquid processing device comprises: a tank (102); a circulation line (104); a processing unit (16) connected to the circulation line through a branch line (112) and performing liquid processing on a substrate using a processing liquid flowing through the circulation line; processing liquid generation mechanisms (206A, 206B, 208) generating the processing liquid by mixing a raw material liquid supplied from each supply source of at least two kinds of the raw material liquid at a controlled mixing ratio; a concentration measurement device (212 or 212') measuring a concentration of the processing liquid flowing through the circulation line and a concentration of the processing liquid flowing a processing liquid supply line; and a control device (4) controlling the processing liquid generation mechanism based on the measured concentration of the processing liquid. 본 발명은, 정확한 농도의 처리액을 기판에 공급하는 것을 목적으로 한다. 기판 액처리 장치는, 탱크(102)와, 순환 라인(104)과, 분기 라인(112)을 통해 순환 라인에 접속되고, 순환 라인을 흐르는 처리액을 이용하여 기판에 액처리를 실시하는 처리부(16)와, 적어도 2종류의 원료액의 각각의 공급원으로부터 공급되는 원료액을 제어된 혼합비로 혼합하여 처리액을 생성하는 처리액 생성 기구(206A, 206B, 208)와, 순환 라인을 흐르는 처리액의 농도 및 처리액 공급 라인을 흐르는 처리액의 농도를 측정하는 농도 측정 장치(212)(또는 212')와, 측정된 처리액의 농도에 기초하여 처리액 생성 기구를 제어하는 제어 장치(4)를 구비한다.