SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

The present invention is to provide a substrate processing device, capable of preventing a process defect due to warpage of a substrate on a stage where the substrate is processed. To this end, the substrate processing device comprises: a plurality of chambers arranged at regular intervals in a circumferential direction to process a substrate; and a turntable (600) provided to be rotated to transfer the substrate between the chambers. At least one of the chambers includes: a stage (110) where the substrate is seated; a clamp ring (120) elevated by being positioned on an upper portion of the substrate to overlap an edge of the substrate by a predetermined width in order to prevent deformation of the substrate loaded on the stage (110); an elastic member (150) provided to apply an elastic force in a direction in which the clamp ring (120) is oriented to the stage (110); and a clamp pin (160) provided to apply a force to the clamp ring (120) to resist the elastic force acting on the clamp ring (120). Accordingly, a process defect due to warpage of the substrate can be prevented. 본 발명은 기판 처리가 이루어지는 스테이지 상의 기판의 휨 현상에 의한 공정 불량을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공함에 그 목적이 있다. 이를 구현하기 위한 본 발명의 기판처리장치는, 기판을 처리하기 위해 원주방향을 따라 일정 간격으로 배치된 다수의 챔버와 상기 다수의 챔버 간에 상기 기판을 이송하기 위해 회전하도록 구비된 턴테이블(600)을 포함하는 기판처리장치에 있어서, 상기 다수의 챔버 중 적어도 하나의 챔버에는, 상기 기판이 안착되는 스테이지(110); 상기 스테이지(110) 상에 적재된 기판의 변형을 방지하기 위해 상기 기판의 가장자리부와 일정 폭만큼 중첩되게 상기 기판의 상부에 위치하여 승강 가능하게 구비된 클램프 링(120); 상기 클램프 링(120)이 상기 스테이지(110)를 향하는 방향으로 탄성력이 작용하도록 구비된 탄성부재(150); 상기 클램프 링(120)에 작용하는 상기 탄성력에 대향하도록 상기 클램프 링(120)에 힘을 작용시키도록 구비된 클램프 핀(160)을 포함한다.