Edge ring and heat treatment apparatus having the same

The present invention relates to an edge ring and a heat treatment apparatus including the same and, more specifically, to an edge ring for improving the temperature uniformity of a substrate during heat treatment and a heat treatment apparatus including the same. The edge ring according to one embodiment of the present invention includes a ring-shaped body. The body may include a substrate support supporting the edge of a lower surface of the substrate, an outer band provided on the outside of the substrate support and having an upper surface higher than the upper surface of the substrate support and parallel to the upper surface of the substrate supported by the substrate support, an outer side wall provided on the outside of the outer band, and a recess provided between the substrate support and the outer band. 본 발명은 엣지 링 및 이를 포함하는 열처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 열처리 시 기판의 온도 균일도를 향상시키는 엣지 링 및 이를 포함하는 열처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 엣지 링은 링 형상의 본체;를 포함하고, 상기 본체는, 기판의 하면 가장자리를 지지하는 기판 지지부; 상기 기판 지지부의 외측에 제공되며, 상기 기판 지지부의 상면보다 높고 상기 기판 지지부에 지지되는 기판의 상면과 평행한 상면을 갖는 외측 밴드; 상기 외측 밴드의 외측에 제공되는 외측 측벽; 및 상기 기판 지지부와 상기 외측 밴드의 사이에 제공되는 요홈부를 포함할 수 있다.