APPARATUS FOR FLOATING SUBSTRATE AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE SAME

A substrate levitation device capable of maintaining constant levitation force provided to a levitation stage may include a levitation stage, a levitation force providing unit, a substrate transfer unit, a cover unit, and a cover transfer unit. The levitation stage may be provided with levitation holes providing levitation force capable of levitating a substrate. The levitation force providing unit may be provided to provide the levitation force to the levitation holes. The substrate transfer unit may be provided to transfer the substrate along the levitation stage. The cover unit may be provided to cover an upper part of the levitation stage so that the levitation force in the levitation stage can be constantly maintained even before the substrate enters the levitation stage. The cover transfer unit may be provided to transfer the cover unit along the levitation stage when the substrate enters the levitation stage. 기판 부상 장치는 부상 스테이지, 부상력 제공부, 기판 이송부, 커버부, 커버 이송부를 포함할 수 있다. 상기 부상 스테이지는 상기 기판을 부상시킬 수 있는 부상력을 제공하는 부상홀들이 형성되도록 구비될 수 있다. 상기 부상력 제공부는 상기 부상홀들로 상기 부상력을 제공하도록 구비될 수 있다. 상기 기판 이송부는 상기 부상 스테이지를 따라 상기 기판을 이송시키도록 구비될 수 있다. 상기 커버부는 상기 부상 스테이지로 상기 기판이 진입되기 이전에도 상기 부상 스테이지에서의 부상력이 일정하게 유지될 수 있게 상기 부상 스테이지 상부를 커버하도록 구비될 수 있다. 상기 커버 이송부는 상기 부상 스테이지로 상기 기판의 진입시 상기 부상 스테이지를 따라 상기 커버부를 이송시키도록 구비될 수 있다.