다수의 파장을 사용하는 다수의 작업 거리 높이 센서
시스템이 개시된다. 시스템은 표본을 수용하고 제1 특성화 모드 동안 제1 작업 거리 높이에서 그리고 추가 특성화 모드 동안 추가 작업 거리 높이에서 표본의 높이를 유지하도록 구성된 스테이지 어셈블리를 포함한다. 시스템은 조명 빔을 생성하도록 구성된 조명 소스를 더 포함한다. 시스템은 제1 특성화 모드 동안 표본에 제1 파장의 조명을 포함하는 조명 빔의 일부를 지향시키고 추가 특성화 모드 동안 표본에 추가 파장의 조명을 포함하는 조명 빔의 일부를 지향시키도록 구성된 한 세트의 광학 요소를 포함하는 조명 암을 더 포함한다. 시스템은 표...
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Zusammenfassung: | 시스템이 개시된다. 시스템은 표본을 수용하고 제1 특성화 모드 동안 제1 작업 거리 높이에서 그리고 추가 특성화 모드 동안 추가 작업 거리 높이에서 표본의 높이를 유지하도록 구성된 스테이지 어셈블리를 포함한다. 시스템은 조명 빔을 생성하도록 구성된 조명 소스를 더 포함한다. 시스템은 제1 특성화 모드 동안 표본에 제1 파장의 조명을 포함하는 조명 빔의 일부를 지향시키고 추가 특성화 모드 동안 표본에 추가 파장의 조명을 포함하는 조명 빔의 일부를 지향시키도록 구성된 한 세트의 광학 요소를 포함하는 조명 암을 더 포함한다. 시스템은 표본으로부터 발산되는 조명을 수신하도록 구성된 검출기 어셈블리 및 검출기 어셈블리에 의해 수신된 조명에 기초하여 표본 높이 값을 결정하도록 구성된 제어기를 더 포함한다.
A system is disclosed. The system includes a stage assembly configured to receive a specimen and maintain a height of the specimen at a first working distance height during a first characterization mode and an additional working distance height during an additional characterization mode. The system further includes an illumination source configured to generate an illumination beam. The system further includes an illumination arm including a set of optical elements configured to direct a portion of the illumination beam including illumination of a first wavelength to the specimen during the first characterization mode, and direct a portion of the illumination beam including illumination of an additional wavelength to the specimen during the additional characterization mode. The system further includes a detector assembly configured to receive illumination emanated from the specimen, and a controller configured to determine a specimen height value based on the illumination received by the detector assembly. |
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