열처리 장치

피처리물의 표면에 균일하고 연속된 에너지 영역을 형성할 수 있도록 개선된 열처리 장치를 개시한다. 열처리 장치는, 적어도 두 개의 광원 유닛과, 적어도 두 개의 광원 유닛 사이에 배치되는 반사부재와, 적어도 두 개의 광원 유닛으로부터 방출되는 광의 진행 경로 상에 배치되는 적어도 하나의 렌즈를 포함한다. 반사부재 및 적어도 하나의 렌즈는 광이 하나의 연속된 에너지 영역을 형성하도록 정렬된다. Disclosed is a heat treatment apparatus improved such that a continuous uniform...

Ausführliche Beschreibung

Bibliographische Detailangaben

1. Verfasser:	JEON YONG JUN
Format:	Patent
Sprache:	kor
Schlagworte:	BASIC ELECTRIC ELEMENTS DEVICES USING STIMULATED EMISSION ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES
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