열처리 장치
피처리물의 표면에 균일하고 연속된 에너지 영역을 형성할 수 있도록 개선된 열처리 장치를 개시한다. 열처리 장치는, 적어도 두 개의 광원 유닛과, 적어도 두 개의 광원 유닛 사이에 배치되는 반사부재와, 적어도 두 개의 광원 유닛으로부터 방출되는 광의 진행 경로 상에 배치되는 적어도 하나의 렌즈를 포함한다. 반사부재 및 적어도 하나의 렌즈는 광이 하나의 연속된 에너지 영역을 형성하도록 정렬된다. Disclosed is a heat treatment apparatus improved such that a continuous uniform...
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Format: | Patent |
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Zusammenfassung: | 피처리물의 표면에 균일하고 연속된 에너지 영역을 형성할 수 있도록 개선된 열처리 장치를 개시한다. 열처리 장치는, 적어도 두 개의 광원 유닛과, 적어도 두 개의 광원 유닛 사이에 배치되는 반사부재와, 적어도 두 개의 광원 유닛으로부터 방출되는 광의 진행 경로 상에 배치되는 적어도 하나의 렌즈를 포함한다. 반사부재 및 적어도 하나의 렌즈는 광이 하나의 연속된 에너지 영역을 형성하도록 정렬된다.
Disclosed is a heat treatment apparatus improved such that a continuous uniform energy region can be formed on the surface of an object to be treated. The heat treatment apparatus comprises: at least two light source units; a reflective member disposed between the at least two light source units; and at least one lens disposed on the travel path of light emitted from the at least two light source units. The reflective member and the at least one lens are arranged such that the light forms one continuous energy region. |
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